뉴욕 주립 패션 공과대학교(Fashion Institute of Technology, 약칭 FIT)는 미국뉴욕시에 있는 공립 예술 대학교로, 뉴욕주립대(The State University of New York) 중의 하나이며, 파슨스(Parsons The New School for Design)와 함께 뉴욕의 양대 패션 대학교로 명성을 쌓아오고 있는 세계적인 패션 대학교입니다. 특히 뉴욕주립대 계열 학교는 비교적 학비가 저렴하며 현장 위주의 교육을 실시해 90% 이상의 취업률을 자랑해서, 경쟁률이 매우 치열한곳이므로 학교 지원 가이드라인에 맞춘 포트폴리오 및 서류 준비가 중요합니다. 

패션디자인 전공을 입학을 위해서는 기본적인 지원서류 이외에 포트폴리오준비가 매우 중요한데요, 포트폴리오의 경우 두학교에서 요구하는 가이드라인이 서로 다르므로 각각 학교의 포트폴리오가이드라인에 맞춰 준비하도록 해야합니다.  

 Deadline: 5월 26일까지

[모집 전공 - 준 학사 AAS과정] 

AAS Fashion Design

AAS Fashion Business Management

FIT의 경우, 매우 구체적인 포트폴리오가이드라인을 제시하고있으며  포트폴리오내에 총 3개의 프로젝트가 포함되는데, 그 3개의 프로젝트안에 리서치 및 디자인, 메이킹까지 포함되며, 패션디자인관련 창의적인 아트워크도 요구됩니다. 

Project One:  Sportswear Coordinates (formerly Mix-and-Match Designs) (3-6 images)

Project Two: Fashion Design Artwork (4-8 images)

Project Three: Sewing Project (4-9 Photographs)

edm포트폴리오학원은 미술을 해본적없는 학생들도 기본기부터 시작하여 완성도 높은 포트폴리오까지 탄탄히 준비시켜 그동안 파슨스와 FIT합격생을 대거 배출하고있습니다.